物理氣相沉積 (PVD) 是一種通過生產金屬基礎的硬質涂層的方法，借助于與某些氣體發生反應，并通過在基材上形成具有特定成分的薄膜來生產金屬基的硬質涂層的方法。PVD涂層技術最常用的方法是濺射和陰極電弧。在濺射中，蒸氣是由金屬靶受高能氣體離子轟擊形成的。陰極電弧方法使用重復的真空電弧放電來撞擊金屬目標，使靶材蒸發。
所有 PVD 涂層技術均在高真空條件下進行。普科 PVD 鍍膜工藝用于在各種工具和部件上沉積由 Ti、Cr、Zr 和 AlCr、AlTi、TiSi 等合金的氮化物、碳化物和碳氮化物制成的涂層。應用包括切割和成型工具、機械部件、醫療設備和受益于涂層堅硬和裝飾特性的產品。PVD 涂層的工藝溫度一般在 250 至 450 °C 之間。
在某些情況下，寅溢納米科技 PVD 涂層可以在低于 70 °C 或高達 600 °C 的溫度下沉積，溫度具體取決于基材材料和應用中的實際需求。
PVD涂層可以沉積為單層、多層和漸變層。寅溢納米硬質涂層是多層涂層的納米結構和超晶格變體，可提供增強性能的效果。可以調整涂層結構以產生所需的硬度、附著力、摩擦等特性。最終的涂層選擇由應用需求決定。涂層厚度范圍為 2 至 5 μm，但可以薄至幾百納米或厚至 15 μm 或更多。基材材料可包括鋼、有色金屬、碳化鎢以及塑料等。PVD 涂層基材的適用性僅受其在沉積溫度下的穩定性和電導率的限制。